微細加工支援装置料金表
(2019年10月改定)
設備 | 型式 | 初回 講習料 (円) |
利用料 |
利用料 |
技術 |
技術 |
技術 |
技術 |
超高精度電子ビーム描画装置 125kV | ELS-F125-U | 35,200 | 2,800 | 7,900 | 7,200 | 12,300 | 11,600 | 16,700 |
超高精度電子ビーム描画装置 100kV | ELS-7000HM | 35,200 | 1,800 | 6,800 | 6,200 | 11,200 | 10,600 | 15,600 |
マスクアライナ | MA-20 | 13,200 | 800 | 1,500 | 5,200 | 5,900 | 9,600 | 10,300 |
レーザー描画装置 | DDB-201-200 | 22,000 | 900 | 3,300 | 5,300 | 7,700 | 9,700 | 12,100 |
真空蒸着装置 | ED-1500R | 22,000 | 800 | 1,500 | 5,200 | 5,900 | 9,600 | 10,300 |
プラズマCVD装置 | PD-220ESN | 22,000 | 1,300 | 4,400 | 5,700 | 8,800 | 10,100 | 13,200 |
液体ソースプラズマCVD装置 | PD-10C1 | 22,000 | 300 | 400 | 4,700 | 4,800 | 9,100 | 9,200 |
ヘリコンスパッタリング装置 | MPS-4000C1/ HC1 |
13,200 | 2,200 | 3,600 | 6,600 | 8,000 | 11,000 | 12,400 |
イオンビームスパッタ装置 | IBS-6000S | 13,200 | 1,500 | 2,100 | 5,900 | 6,500 | 10,300 | 10,900 |
原子層堆積装置 | SUNALE-R | 13,200 | 2,500 | 5,000 | 6,900 | 9,400 | 11,300 | 13,800 |
ICPドライエッチング装置 | SPM-200 | 22,000 | 1,500 | 4,100 | 5,900 | 8,500 | 10,300 | 12,900 |
反応性イオンエッチング装置 | RIE-101iPH | 13,200 | 2,100 | 4,400 | 6,500 | 8,800 | 10,900 | 13,200 |
反応性イオンエッチング装置 | RIE-10NRV | 13,200 | 1,400 | 3,400 | 5,800 | 7,800 | 10,200 | 12,200 |
ドライエッチング装置 | NLD-500 | 13,200 | 1,200 | 1,900 | 5,600 | 6,300 | 10,000 | 10,700 |
イオンミリング装置 | IBE-6000S | 13,200 | 600 | 1,000 | 5,000 | 5,400 | 9,400 | 9,800 |
電界放射型走査型電子顕微鏡 | JSM-6700FT | 22,000 | 900 | 1,000 | 5,300 | 5,400 | 9,700 | 9,800 |
電子ビーム描画装置 | ELS-3700 | 26,400 | 1,500 | 2,300 | 5,900 | 6,700 | 10,300 | 11,100 |
電子線描画装置 | ELS-7300 | 70,400 | 1,800 | 5,500 | 6,200 | 9,900 | 10,600 | 14,300 |
両面マスクアライナ | MA-6 | 70,400 | 700 | 2,900 | 5,100 | 7,300 | 9,500 | 11,700 |
ECR加工装置 | EIS-200ER | 44,000 | 1,000 | 1,600 | 5,400 | 6,000 | 9,800 | 10,400 |
ICP加工装置 | EIS-700S | 26,400 | 1,100 | 1,100 | 5,500 | 5,500 | 9,900 | 9,900 |
超高真空5源ヘリコンスパッタ | Av028 | 26,400 | 1,300 | 2,500 | 5,700 | 6,900 | 10,100 | 11,300 |
ALD製膜装置 | Savannah 100 | 26,400 | 1,600 | 3,000 | 6,000 | 7,400 | 10,400 | 11,800 |
スパッタ装置 | SPF-210H | 26,400 | 300 | 500 | 4,700 | 4,900 | 9,100 | 9,300 |
EB加熱・抵抗加熱蒸着装置 | EBX-8C | 17,600 | 2,500 | 2,900 | 6,900 | 7,300 | 11,300 | 11,700 |
EB加熱・抵抗加熱蒸着装置 | AV096-000 | 17,600 | 1,400 | 2,600 | 5,800 | 7,000 | 10,200 | 11,400 |
FIB加工装置 | EIP-3300 | 44,000 | 1,600 | 2,100 | 6,000 | 6,500 | 10,400 | 10,900 |
ナノカーボン成長炉 | Easy tube system | 44,000 | 400 | 400 | 4,800 | 4,800 | 9,200 | 9,200 |
エリプソメーター | M-500S | 8,800 | 200 | 700 | 4,600 | 5,100 | 9,000 | 9,500 |
超高速スキャン高精度電子ビーム露光装置 | ELS-F130HM | 35,200 | 6,100 | 28,100 | 10,500 | 32,500 | 14,900 | 36,900 |
半導体薄膜堆積装置 | PAC-LMBE | 35,200 | 1,900 | 5,700 | 6,300 | 10,100 | 10,700 | 14,500 |
電子線3次元粗さ解析装置 | ERA-8000FE | 35,200 | 1,300 | 1,300 | 5,700 | 5,700 | 10,100 | 10,100 |
コンパクトスパッタ装置 | ACS-4000-C3-HS | 13,200 | 1,700 | 3,700 | 6,100 | 8,100 | 10,500 | 12,500 |
ICP高密度プラズマエッチング装置 | RIE-101iHS | 13,200 | 1,700 | 6,000 | 6,100 | 10,400 | 10,500 | 14,800 |
スパッタ装置 | SSP3000Plus | 105,600 | 800 | 1,800 | 5,200 | 6,200 | 9,600 | 10,600 |
ダイシングソー | DAD322 | 105,600 | 800 | 1,200 | 5,200 | 5,600 | 9,600 | 10,000 |
多元スパッタ装置 | QAM-4-ST | 26,400 | 2,400 | 4,100 | 6,800 | 8,500 | 11,200 | 12,900 |
シリコン深堀りエッチング装置 | APX-ASE-Pegasus-Polestar | 35,200 | 4,700 | 10,500 | 9,100 | 14,900 | 13,500 | 19,300 |
電子ビーム蒸着装置 | EB-580S | 26,400 | 1,500 | 2,300 | 5,900 | 6,700 | 10,300 | 11,100 |
レーザー顕微鏡 | VK-9700/ 9710 |
26,400 | 800 | 1,500 | 5,200 | 5,900 | 9,600 | 10,300 |
UV-オゾンクリーナー | UV-1 | 8,800 | 500 | 500 | 4,900 | 4,900 | 9,300 | 9,300 |
光学干渉式膜厚計 | F20-UV | 26,400 | 600 | 800 | 5,000 | 5,200 | 9,400 | 9,600 |
原子層堆積装置 (粉末対応型) |
R-200 advanced | 26,400 | 3,200 | 6,900 | 7,600 | 11,300 | 12,000 | 15,700 |
微細構造解析支援装置料金表
(2020年4月改定)
設備 | 型式 | 初回 講習料 (円) |
利用料 |
利用料 |
技術 |
技術 |
技術 |
技術 |
電界放射型走査電子顕微鏡 (FE-SEM) |
JSM-6500F | 35,200 | 1,600 | 4,000 | 6,000 | 8,400 | 10,400 | 12,800 |
超高真空・極低温・高磁場SPM (LT-UHV-SPM) |
JAFM4500LT | 26,400 | 1,600 | 7,900 | 6,000 | 12,300 | 10,400 | 16,700 |
超高圧電子顕微鏡群 | JEM-ARM1300 | 70,400 | 3,800 | 5,400 | 8,200 | 9,800 | 12,600 | 14,200 |
電界放射型電子顕微鏡 (200kV FEG-TEM) |
JEM-2010F | 70,400 | 2,600 | 2,600 | 7,000 | 7,000 | 11,400 | 11,400 |
超薄膜評価装置 | HD-2000 | 17,600 | 2,600 | 7,900 | 7,000 | 12,300 | 11,400 | 16,700 |
集束イオンビーム加工観察装置 | FB-2100 | 22,000 | 2,000 | 4,700 | 6,400 | 9,100 | 10,800 | 13,500 |
環境セル対応電子顕微鏡システム (TEM) |
JEM2010 | 35,200 | 1,500 | 4,100 | 5,900 | 8,500 | 10,300 | 12,900 |
電子プローブマイクロアナライザ (FE-EPMA) |
JXA-8530F | 35,200 | 3,100 | 8,800 | 7,500 | 13,200 | 11,900 | 17,600 |
複合ビーム加工観察装置 (FIB-SEM) |
JIB-4600F/ HKD |
35,200 | 2,900 | 5,400 | 7,300 | 9,800 | 11,700 | 14,200 |
複合ビーム加工観察装置 (FIB-SEM)EDS・EBSDオプション |
JED-2300 (EDS)/ IB-Z10053T3DEBS (EBSD) |
0 | 500 | 900 | 500 | 900 | 500 | 900 |
オージェ電子分光装置 | JAMP-9500F | 35,200 | 2,600 | 9,000 | 7,000 | 13,400 | 11,400 | 17,800 |
X線光電子分光装置 | JPS-9200 | 35,200 | 2,000 | 6,200 | 6,400 | 10,600 | 10,800 | 15,000 |
スピンSEM | – | 26,400 | 2,200 | 2,700 | 6,600 | 7,100 | 11,000 | 11,500 |
超高真空STM・スピン偏極STM装置 | STM/AFM,VT-STM | 26,400 | 2,800 | 4,700 | 7,200 | 9,100 | 11,600 | 13,500 |
時間分解光電子顕微鏡システム | PEEM-Ⅲ | 140,800 | 2,900 | 6,300 | 7,300 | 10,700 | 11,700 | 15,100 |
高分解能3次元構造評価装置 | Titan3 G2 60-300 | 70,400 | 8,400 | 34,600 | 12,800 | 39,000 | 17,200 | 43,400 |
収差補正走査型透過電子顕微鏡 | JEM-ARM200F | 44,000 | 5,000 | 17,700 | 9,400 | 22,100 | 13,800 | 26,500 |
走査型プローブ顕微鏡 | NanoNavi Station SPA300 | 35,200 | 200 | 400 | 4,600 | 4,800 | 9,000 | 9,200 |
超高真空AFM | JAFM-4500XT | 211,200 | 1,100 | 1,600 | 5,500 | 6,000 | 9,900 | 10,400 |
大気中光電子分光装置 | AC-3 | 13,200 | 2,000 | 4,300 | 6,400 | 8,700 | 10,800 | 13,100 |
超高分解能走査型電子顕微鏡 | SU8230 | 26,400 | 2,400 | 5,000 | 6,800 | 9,400 | 11,200 | 13,800 |
技術相談料
技術相談料 | 11,000円/ 時間 |
技術支援料(サンプル前処理・設計等)
技術支援料 |
4,400円/ 時間 |
※高度な知識や経験が必要とされる作業、複数の技術を組み合わせる作業、その他難易度の高い作業を伴う場合は8,800円/時間