ナノテクノロジープラットフォーム
支援装置料金表

微細加工支援装置料金表

(2019年10月改定)

設備 型式 初回
講習料
(円)

利用料
(円/1h)
(学外者
(大学・
公的
機関))

利用料
(円/1h)
(学外者
(一般))

技術
補助料
(円/1h)
(学外者
(大学・
公的
機関))

技術
補助料
(円/1h)
(学外者
(一般))

技術
代行料
(円/1h)
(学外者
(大学・
公的
機関))

技術
代行料
(円/1h)
(学外者
(一般))

超高精度電子ビーム描画装置 125kV ELS-F125-U 35,200 2,800 7,900 7,200 12,300 11,600 16,700
超高精度電子ビーム描画装置 100kV ELS-7000HM 35,200 1,800 6,800 6,200 11,200 10,600 15,600
マスクアライナ MA-20 13,200 800 1,500 5,200 5,900 9,600 10,300
レーザー描画装置 DDB-201-200 22,000 900 3,300 5,300 7,700 9,700 12,100
真空蒸着装置 ED-1500R 22,000 800 1,500 5,200 5,900 9,600 10,300
プラズマCVD装置 PD-220ESN 22,000 1,300 4,400 5,700 8,800 10,100 13,200
液体ソースプラズマCVD装置 PD-10C1 22,000 300 400 4,700 4,800 9,100 9,200
ヘリコンスパッタリング装置 MPS-4000C1/
HC1
13,200 2,200 3,600 6,600 8,000 11,000 12,400
イオンビームスパッタ装置 IBS-6000S 13,200 1,500 2,100 5,900 6,500 10,300 10,900
原子層堆積装置 SUNALE-R 13,200 2,500 5,000 6,900 9,400 11,300 13,800
ICPドライエッチング装置 SPM-200 22,000 1,500 4,100 5,900 8,500 10,300 12,900
反応性イオンエッチング装置 RIE-101iPH 13,200 2,100 4,400 6,500 8,800 10,900 13,200
反応性イオンエッチング装置 RIE-10NRV 13,200 1,400 3,400 5,800 7,800 10,200 12,200
ドライエッチング装置 NLD-500 13,200 1,200 1,900 5,600 6,300 10,000 10,700
イオンミリング装置 IBE-6000S 13,200 600 1,000 5,000 5,400 9,400 9,800
電界放射型走査型電子顕微鏡 JSM-6700FT 22,000 900 1,000 5,300 5,400 9,700 9,800
電子ビーム描画装置 ELS-3700 26,400 1,500 2,300 5,900 6,700 10,300 11,100
電子線描画装置 ELS-7300 70,400 1,800 5,500 6,200 9,900 10,600 14,300
両面マスクアライナ MA-6 70,400 700 2,900 5,100 7,300 9,500 11,700
ECR加工装置 EIS-200ER 44,000 1,000 1,600 5,400 6,000 9,800 10,400
ICP加工装置 EIS-700S 26,400 1,100 1,100 5,500 5,500 9,900 9,900
超高真空5源ヘリコンスパッタ Av028 26,400 1,300 2,500 5,700 6,900 10,100 11,300
ALD製膜装置 Savannah 100 26,400 1,600 3,000 6,000 7,400 10,400 11,800
スパッタ装置 SPF-210H 26,400 300 500 4,700 4,900 9,100 9,300
EB加熱・抵抗加熱蒸着装置 EBX-8C 17,600 2,500 2,900 6,900 7,300 11,300 11,700
EB加熱・抵抗加熱蒸着装置 AV096-000 17,600 1,400 2,600 5,800 7,000 10,200 11,400
FIB加工装置 EIP-3300 44,000 1,600 2,100 6,000 6,500 10,400 10,900
ナノカーボン成長炉 Easy tube system 44,000 400 400 4,800 4,800 9,200 9,200
エリプソメーター M-500S 8,800 200 700 4,600 5,100 9,000 9,500
超高速スキャン高精度電子ビーム露光装置 ELS-F130HM 35,200 6,100 28,100 10,500 32,500 14,900 36,900
半導体薄膜堆積装置 PAC-LMBE 35,200 1,900 5,700 6,300 10,100 10,700 14,500
電子線3次元粗さ解析装置 ERA-8000FE 35,200 1,300 1,300 5,700 5,700 10,100 10,100
コンパクトスパッタ装置 ACS-4000-C3-HS 13,200 1,700 3,700 6,100 8,100 10,500 12,500
ICP高密度プラズマエッチング装置 RIE-101iHS 13,200 1,700 6,000 6,100 10,400 10,500 14,800
スパッタ装置 SSP3000Plus 105,600 800 1,800 5,200 6,200 9,600 10,600
ダイシングソー DAD322 105,600 800 1,200 5,200 5,600 9,600 10,000
多元スパッタ装置 QAM-4-ST 26,400 2,400 4,100 6,800 8,500 11,200 12,900
シリコン深堀りエッチング装置 APX-ASE-Pegasus-Polestar 35,200 4,700 10,500 9,100 14,900 13,500 19,300
電子ビーム蒸着装置 EB-580S 26,400 1,500 2,300 5,900 6,700 10,300 11,100
レーザー顕微鏡 VK-9700/
9710
26,400 800 1,500 5,200 5,900 9,600 10,300
UV-オゾンクリーナー UV-1 8,800 500 500 4,900 4,900 9,300 9,300
光学干渉式膜厚計 F20-UV 26,400 600 800 5,000 5,200 9,400 9,600
原子層堆積装置
(粉末対応型)
R-200 advanced 26,400 3,200 6,900 7,600 11,300 12,000 15,700

微細構造解析支援装置料金表

(2020年4月改定)

設備 型式 初回
講習料
(円)

利用料
(円/1h)
(学外者
(大学・
公的
機関))

利用料
(円/1h)
(学外者
(一般))

技術
補助料
(円/1h)
(学外者
(大学・
公的
機関))

技術
補助料
(円/1h)
(学外者
(一般))

技術
代行料
(円/1h)
(学外者
(大学・
公的
機関))

技術
代行料
(円/1h)
(学外者
(一般))

電界放射型走査電子顕微鏡
(FE-SEM)
JSM-6500F 35,200 1,600 4,000 6,000 8,400 10,400 12,800
超高真空・極低温・高磁場SPM
(LT-UHV-SPM)
JAFM4500LT 26,400 1,600 7,900 6,000 12,300 10,400 16,700
超高圧電子顕微鏡群 JEM-ARM1300 70,400 3,800 5,400 8,200 9,800 12,600 14,200
電界放射型電子顕微鏡
(200kV FEG-TEM)
JEM-2010F 70,400 2,600 2,600 7,000 7,000 11,400 11,400
超薄膜評価装置 HD-2000 17,600 2,600 7,900 7,000 12,300 11,400 16,700
集束イオンビーム加工観察装置 FB-2100 22,000 2,000 4,700 6,400 9,100 10,800 13,500
環境セル対応電子顕微鏡システム
(TEM)
JEM2010 35,200 1,500 4,100 5,900 8,500 10,300 12,900
電子プローブマイクロアナライザ
(FE-EPMA)
JXA-8530F 35,200 3,100 8,800 7,500 13,200 11,900 17,600
複合ビーム加工観察装置
(FIB-SEM)
JIB-4600F/
HKD
35,200 2,900 5,400 7,300 9,800 11,700 14,200
複合ビーム加工観察装置
(FIB-SEM)EDS・EBSDオプション
JED-2300
(EDS)/
IB-Z10053T3DEBS
(EBSD)
0 500 900 500 900 500 900
オージェ電子分光装置 JAMP-9500F 35,200 2,600 9,000 7,000 13,400 11,400 17,800
X線光電子分光装置 JPS-9200 35,200 2,000 6,200 6,400 10,600 10,800 15,000
スピンSEM 26,400 2,200 2,700 6,600 7,100 11,000 11,500
超高真空STM・スピン偏極STM装置 STM/AFM,VT-STM 26,400 2,800 4,700 7,200 9,100 11,600 13,500
時間分解光電子顕微鏡システム PEEM-Ⅲ 140,800 2,900 6,300 7,300 10,700 11,700 15,100
高分解能3次元構造評価装置 Titan3 G2 60-300 70,400 8,400 34,600 12,800 39,000 17,200 43,400
収差補正走査型透過電子顕微鏡 JEM-ARM200F 44,000 5,000 17,700 9,400 22,100 13,800 26,500
走査型プローブ顕微鏡 NanoNavi Station SPA300 35,200 200 400 4,600 4,800 9,000 9,200
超高真空AFM JAFM-4500XT 211,200 1,100 1,600 5,500 6,000 9,900 10,400
大気中光電子分光装置 AC-3 13,200 2,000 4,300 6,400 8,700 10,800 13,100
超高分解能走査型電子顕微鏡 SU8230 26,400 2,400 5,000 6,800 9,400 11,200 13,800

技術相談料

技術相談料 11,000円/ 時間

技術支援料(サンプル前処理・設計等)

技術支援料

4,400円/ 時間

※高度な知識や経験が必要とされる作業、複数の技術を組み合わせる作業、その他難易度の高い作業を伴う場合は8,800円/時間

微細加工支援装置料金表(PDFファイル)

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