お知らせ

『EB描画実践セミナー』開催(つくば 2/19)

 文部科学省委託事業「ナノテクノロジープラットフォーム」の一環として、『EB描画実践セミナー』を2016年2月19日(金)産業技術総合研究所にて開催いたします。

 電子ビーム露光技術の基礎から描画のためのデータ処理技術について、初心者にも分かり易く解説します。また、最新の露光装置を使った事例を紹介しますので、より具体的なイメージを持つことができると思います。このセミナーに併設して“データ処理ソフトの使い方”についての無料実習コースを準備いたしました。露光実験を検討されている皆様に、是非一度使っていただきたく思います。

 また、実際の露光装置を使った実習プログラムも用意しています。産学官いずれのご所属の方にも、広くご参加をお待ちしております。

 

■日 時:2016年2月19日(金)9:55-12:30

■場 所:産業技術総合研究所つくば中央2-12棟第6会議室

      http://www.aist.go.jp/aist_j/guidemap/tsukuba/center/tsukuba_map_c.html

■参加費:無 料

■定 員:60名(先着順)

■セミナー申し込み案内:

  https://nanoworld.jp/npf/training/h27-5/index.html

 

【プログラム】

  9:55 開会

  9:55-10:00   『はじめに』 産総研 多田哲也

  10:00-11:00 『電子ビーム露光の基礎』 東京工業大学 宮本恭幸

  11:00-11:30 『電子ビーム露光における近接効果』 産総研 有本 宏

  11:30-12:00 『電子ビーム描画のための様々なデータ処理技術』 GenISys 竹村 等

  12:00-12:30 『誤微細加工プラットフォームの紹介と実施機関からの最新露光装置を使った事例』

          東京大学 島本直伸

 

■お問合せ先:

  国立研究開発法人 産業技術総合研究所

  つくばイノベーションアリーナ推進センター

  共用施設運営ユニット・共用施設ステーション

  ナノプロセシング施設

  電子メール:tia-npf-school4(at)aist.go.jp (※(at)を@に変更して送付下さい)

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