料金表

技術相談料

技術相談料(円 / 一時間当たり) 3,500

微細加工支援装置料金表(2015年7月改定)

設備 型式

初回講習料     (円)

利用料
(円/1h)
(大学・公的機関)     

利用料  (円/1h)
(一般)  

技術代行料(円/1h)

(大学・公的機関)

技術代行料(円/1h)

(一般)

超高精度電子ビーム描画装125kV

ELS―F125―U 28,000 2,500 7,200 6,000 10,700

超高精度電子ビーム描画装100kV

ELS―7000HM 28,000 1,600 6,200 5,100 9,700
マスクアライナ MA―20 3,500 400 1,100 3,900 4,600
レーザー描画装置 DDB―201―200 14,000 400 400 3,900 3,900
真空蒸着装置 ED―1500R 7,000 500 1,000 4,000 4,500
プラズマCVD装置 PD―220ESN 7,000 1,200 4,000 4,700 7,500

液体ソースプラズマCVD装置

PD―10C1 21,000 300 400 3,800 3,900

ヘリコンスパッタリング装置

MPS―4000C1/HC1 10,500 2,000 3,200 5,500 6,700

イオンビームスパッタ装置

IBS―6000S 7,000 700 1,200 4,200 4,700
原子層堆積装置 SUNALE―R 14,000 1,500 1,500 5,000 5,000

ICPドライエッチング装置

SPM―200 7,000 1,300 3,600 4,800 7,100

反応性イオンエッチング装置

RIE―101iPH 10,500 1,600 3,700 5,100 7,200

反応性イオンエッチング装置

RIE―10NRV 7,000 900 2,700 4,400 6,200

ドライエッチング装置

NLD―500 10,500 700 1,300 4,200 4,800

イオンミリング装置

IBE―6000S 7,000 600 900 4,100 4,400

電界放射型走査型電子顕微鏡

JSM―6700FT 84,000 800 900 4,300 4,400

電子ビーム描画装置

ELS―3700 10,500 1,100 1,900 4,600 5,400
電子線描画装置 ELS―7300 28,000 1,600 4,900 5,100 8,400

両面マスクアライナ

MA―6 28,000 600 2,600 4,100 6,100
ECR加工装置 EIS―200ER 17,500 900 1,400 4,400 4,900
ICP加工装置 EIS―700S 10,500 900 900 4,400 4,400

超高真空5源ヘリコンスパッタ

Av028 10,500 1,100 2,200 4,600 5,700

ALD製膜装置

Savannah 100 10,500 1,300 2,600 4,800 6,100
スパッタ装置 SPF―210H 10,500 200 400 3,700 3,900

EB加熱・抵抗加熱蒸着装置

EBX―8C 7,000 2,000 2,300 5,500 5,800

EB加熱・抵抗加熱蒸着装置

AV096―000 7,000 1,200 2,200 4,700 5,700
FIB加工装置 EIP―3300 17,500 1,200 1,700 4,700 5,200

ナノカーボン成長炉

Easy tube system 17,500 300 300 3,800 3,800

エリプソメーター

M-500S 3,500 200 700 3,700 4,200

超高速スキャン高精度電子

ビーム露光装置

ELS-F130HM 28,000 5,500 25,500 9,000 29,000

半導体薄膜堆積装置

PAC-LMBE 14,000 1,500 4,900 5,000 8,400

電子線3次元粗さ解析装置

ERA-8000FE 14,000 1,100 1,100 4,600 4,600

コンパクトスパッタ装置

ACS-4000-C3-HS 10,500 1,100 2,900 4,600 6,400

ICP高密度プラズマ

エッチング装置

RIE-101iHS 7,000 1,600 5,400 5,100 8,900

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