支援装置料金表【微細加工】

微細加工支援装置料金表(2018年10月改定)

 

 

設備 型式 初回講習料
(円)

利用料
(円/1h)
(学外者(大学・公的機関))

利用料
 (円/1h)
(学外者(一般))

技術補助料
 (円/1h)
(学外者(大学・公的機関))

技術補助料
 (円/1h)
(学外者(一般))

技術代行料
 (円/1h)
(学外者(大学・公的機関))

技術代行料
 (円/1h)
(学外者(一般))

超高精度電子ビーム描画装置 125kV ELS—F125—U 32,000 2,500 7,200 6,500 11,200 10,500 15,200
超高精度電子ビーム描画装置 100kV ELS—7000HM 32,000 1,600 6,200 5,600 10,200 9,600 14,200
マスクアライナ MA—20 12,000 400 1,100 4,400 5,100 8,400 9,100
レーザー描画装置 DDB—201—200 20,000 700 2,800 4,700 6,800 8,700 10,800
真空蒸着装置 ED—1500R 20,000 500 1,000 4,500 5000 8,500 9,000
プラズマCVD装置 PD—220ESN 20,000 1,200 4,000 5,200 8,000 9,200 12,000
液体ソースプラズマCVD装置 PD—10C1 20,000 300 400 4,300 4,400 8,300 8,400
ヘリコンスパッタリング装置 MPS—4000C1/HC1 12,000 2,000 3,200 6,000 7,200 10,000 11,200
イオンビームスパッタ装置 IBS—6000S 12,000 700 1,200 4,700 5,200 8,700 9,200
原子層堆積装置 SUNALE—R 12,000 1,900 4,100 5,900 8,100 9,900 12,100
ICPドライエッチング装置 SPM—200 20,000 1,300 3,600 5,300 7,600 9,300 11,600
反応性イオンエッチング装置 RIE—101iPH 12,000 1,600 3,700 5,600 7,700 9,600 11,700
反応性イオンエッチング装置 RIE—10NRV 12,000 900 2,700 4,900 6,700 8,900 10,700
ドライエッチング装置 NLD—500 12,000 800 1,400 4,800 5,400 8,800 9,400
イオンミリング装置 IBE—6000S 12,000 600 900 4,600 4,900 8,600 8,900
電界放射型走査型電子顕微鏡 JSM—6700FT 20,000 800 900 4,800 4,900 8,800 8,900
電子ビーム描画装置 ELS—3700 24,000 1,300 2,100 5,300 6,100 9,300 10,100
電子線描画装置 ELS—7300 64,000 1,600 5,000 5,600 9,000 9,600 13,000
両面マスクアライナ MA—6 64,000 700 2,700 4,700 6,700 8,700 10,700
ECR加工装置 EIS—200ER 40,000 900 1,500 4,900 5,500 8,900 9,500
ICP加工装置 EIS—700S 24,000 1,000 1,000 5,000 5,000 9,000 9,000
超高真空5源ヘリコンスパッタ Av028 24,000 1,200 2,300 5,200 6,300 9,200 10,300
ALD製膜装置 Savannah 100 24,000 1,400 2,700 5,400 6,700 9,400 10,700
スパッタ装置 SPF—210H 24,000 300 500 4,300 4,500 8,300 8,500
EB加熱・抵抗加熱蒸着装置 EBX—8C 16,000 2,300 2,600 6,300 6,600 10,300 10,600
EB加熱・抵抗加熱蒸着装置 AV096—000 16,000 1,300 2,400 5,300 6,400 9,300 10,400
FIB加工装置 EIP—3300 40,000 1,500 1,900 5,500 5,900 9,500 9,900
ナノカーボン成長炉 Easy tube system 40,000 400 400 4,400 4,400 8,400 8,400
エリプソメーター M-500S 8,000 200 700 4,200 4,700 8,200 8,700
超高速スキャン高精度電子ビーム露光装置 ELS-F130HM 32,000 5,500 25,500 9,500 29,500 13,500 33,500
半導体薄膜堆積装置 PAC-LMBE 32,000 1,500 4,900 5,500 8,900 9,500 12,900
電子線3次元粗さ解析装置 ERA-8000FE 32,000 1,100 1,200 5,100 5,200 9,100 9,200
コンパクトスパッタ装置 ACS-4000-C3-HS 12,000 1,100 2,900 5,100 6,900 9,100 10,900
ICP高密度プラズマエッチング装置 RIE-101iHS 12,000 1,600 5,400 5,600 9,400 9,600 13,400


技術相談料

技術相談料 10,000円/ 時間

 

 

技術支援料(サンプル前処理・設計等)

技術支援料

4,000円/ 時間

※高度な知識や経験が必要とされる作業、複数の技術を組み合わせる作業、その他難易度の高い作業を伴う場合は8,000円/時間

微細加工支援装置料金表(PDFファイル)

 

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